Plant Layout Designer
Pubblicato il 17-08-2026 - Macchinari e impiantistica in Buttrio
Fondata nel 1914, Danieli è leader mondiale nella costruzione di impianti e macchine per l'industria siderurgica. L'azienda conta oltre venticinque divisioni e si distingue per innovazione, spirito di squadra, eccellenza e affidabilità. Attualmente stiamo potenziando il nostro team all'interno dell'area Danieli Centro Metallics . La Riduzione Diretta è riconosciuta come una delle tecnologiche in grado di decarbonizzare il settore siderurgico e in particolare di quella sviluppata da Danieli è già Hydrogen Ready, quindi proiettata verso la produzione di Green Steel.
Sede di lavoro: Buttrio (UD)
Responsabilità
Progettazione di sistemi ingegneristici complessi nell'industria siderurgica;
Collaborazione con i responsabili delle proposte, i project manager e i team di ingegneri di diverse discipline per la generazione di planimetrie e layout tecnologici per gli impianti di riduzione diretta, in conformità ai requisiti di processo, agli standard di progettazione internazionali, alle specifiche del cliente, alla programmazione e ai requisiti di budget;
Sviluppo di planimetrie e modelli preliminari 3D per la fase di proposta e lo studio di fattibilità;
Verifica del layout con i diagrammi di flusso del processo e il P&ID;, definizione degli accessi e delle distanze necessarie per la manutenzione e il funzionamento delle apparecchiature, verifica dei disegni strutturali e civili, coordinamento e verifica dei lavori di ingegneria esterni, verifica dei disegni dei fornitori in relazione ai layout dell'impianto;
Creazione di modelli 3D per strutture in acciaio, canalizzazioni di processo, tubazioni principali, passerelle per cavi e movimentazione dei materiali;
Coordinare lo sviluppo di strumenti e cataloghi personalizzati per la piattaforma 3D utilizzata per la progettazione degli impianti;
Sviluppo della progettazione di base delle strutture tecnologiche in acciaio e della movimentazione dei materiali;
Esecuzione di indagini sul campo come richiesto;
SVe sviluppo di disegni di m